上海伯東真空產品事業部搬遷通知

霍爾離子源 eH 3000
閱讀數: 2722

霍爾離子源 eH 3000

KRI 霍爾離子源 eH 3000
上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 最適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
水冷 - 加速冷卻
可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
高效的等離子轉換和穩定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術參數

型號

eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

供電

DC magnetic confinement

  - 電壓

50-250V VDC

  - 離子源直徑

~ 7 cm

  - 陽極結構

模塊化

電源控制

eHx-25020A

配置

-

 - 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

 - 離子束發散角度

> 45° (hwhm)

  - 陽極

標準或 Grooved

 - 水冷

前板水冷

 - 底座

移動或快接法蘭

 - 高度

4.0'

 - 直徑

5.7'

 - 加工材料

金屬
電介質
半導體

 - 工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

 - 安裝距離

16-45”

 - 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 可調角度的支架;

KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域
濺鍍和蒸發鍍膜 PC
輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉積 DD

其他產品
贵州十一选五一定牛 宝利国际股票股吧 浙江11选5玩法胆拖玩法 牛彩湖北快3走势图 2020幸运飞艇官方开奖网站 北京快乐8开奖app 股票配资平台违法了会怎么处理 新手炒股用什么软件 山东11选5推荐任三预测 pk10走势图杀码技巧 极速快三大小单双技巧 江西11选5官网 飞艇微信群平台免费计划 股民配资炒股 广东36选7最新走势 昨天的1北京11选五走势图 广东十一选五预测任一